在半导体领域中国一直处于落后状态，经过几十年的努力，成效也不是很好。好在台积电目前已经成为了全球最大的芯片代工厂，目前国内市场生产需求也都能够满足，而类似苹果、华为等等这样的大企业研发出芯片之后，都需要台积电的工艺完成生产成型，而台积电的技术过分依赖美国，所以由于种种原因，华为最终把代工需求慢慢转向了国内的工厂。

根据相关消息称，交由台积电生产的5纳米芯片订单被华为取消了，与此同时也面临了一个困境，目前只有台积电和三星拥有5纳米的加工工艺，虽然目前中芯国际已经有能力，帮助华为生产14纳米的芯片，但是对于5纳米的工艺显然还是相去甚远，从自主设计国产芯片到实现生产国产芯片，华为目前已经做得很好了，而要想实现更为高端的芯片生产，其所需要的关键设备就是光刻机。

中芯国际自2000年成立以来，经过二十多年的努力，目前也能够掌握14纳米工艺的批量生产了，也成为了国内最大的芯片代工企业，也成为了中国半导体领域能够突破的一个关键因素，目前中芯国际也在抓紧研发7纳米的生产工艺，而其中光刻机就是其中的关键，为了解决这一个问题，花8.4亿的天价向荷兰ASML公司购买一台极紫外光刻机。

紫外光对于芯片加工起着至关重要的作用，而光刻机的激光器发出的不同紫外光波长，对于芯片的精度起着决定性的作用，目前国内外代工厂最常用的就是DUV深紫外光刻机，它的波长就是从436纳米逐渐缩小至193纳米的，看似完美的存在，但是也有着一个重大的缺陷，它最多只能生产7纳米工艺的芯片，更为高端的需求就满足不了。

为了满足科技的发展，荷兰的ASML公司经过多年的研发，改变了原有的光源，最终将极紫外光的EUV光刻机的精度提升到了13.5纳米，凭借着此项技术垄断了全球的市场。

在前一段时间中芯国际收到了，一架来自ASML公司的光刻机，很多人都以为就是此前花8.4亿购买的EUV光刻机，其实这就是一台DUV深紫外光刻机，这也大大拖垮中芯国际在7纳米工艺的生产研发进度。要知道要实现7纳米工艺的生产，就必须要用到这样一台光刻机。

目前中国也在加大投资力度，研发自己的国产光刻机，随后也迎来了好消息，由中国安芯半导体公司研发的两台光刻机，目前已经完成整机出库，虽然精度不高但是国产率达到了70%，这对于我们来说无疑是一个振奋人心的好消息。

而其中一台被国内企业海康威视，用来生产制造作耳温枪的生产制造，另外一台被用作半导体领域中互补金属氧化物的研究，虽然此次生产制造的国产光刻机工艺被定格在了90纳米左右，但是好消息就是在22纳米的工艺上，中科院已经有所突破，对于这样高精密领域，发达国家也都是经过上百年的沉淀的，我们也不能急于一时，要慢慢的积累，有了3887亿的专项研发基金，中国在半导体领域势将大有所为，让我们拭目以待吧。